Внимание! cool-diplom.ru не продает дипломы, аттестаты об образовании и иные документы об образовании. Все услуги на сайте предоставляются исключительно в рамках законодательства РФ.
Эндогенной называется инфекция,находящаяся внутри организма или на кожных покровах и слизстых.Такая инфекция в рану может попасть контактным путем,лимфогенным путем и гематогенным путем.Источниками эн
Литейный, д.7, кв. 92 Оценка _______________ Дата _____________ Подпись преподавателя ________________________ Контрольная работа предъявляется при сдаче экзамена. Оглавление : 1. Формирование русско
Частично трансформированная японская модель принята в других странах, идущих по пути Японии. Но эти пути нельзя считать абсолютно идентичными, так как отдельные страны обладают различным экономическим
Неотъемлемой чертой рыночной экономики я вл я етс я безработица - временна я не зан я тость экономически активного населени я . Причины данного я влени я разнообразны: 1. Структурные сдвиги в экономик
Заключение. Список литературы. Введение Развитие отечественной дерматологии Человек как один из объектов изучения науки биологии в значительной степени состоит из кожного и волосяного покрова. Изуч
Михаил Сперанский был для русской бюрократии своего рода Пушкиным. В начале XIX века его стараниями в России была введена министерская система государственного управления (министерства финансов, иност
Устройства, находящиеся внутри системного блока, называют внутренними, а устройства, подключаемые к нему снаружи, называют внешними. Внешние дополнительные устройства, предназначенные для ввода, выво
Конституция Российской федерации (ст.2) впервые закрепила прямую обязанность государства защищать права человека. При этом подчёркивается (ст.18), что права и свободы человека и гражданина являются не
Следующим шагом в миниатюризации было создание техники интегральных микросхем. Этот этап принципиально отличался от предыдущих тем, что в нем аппаратура собирается не из отдельных элементов или модулей, а из функциональных схем, образованных в едином технологическом процессе производства.
Основными разновидностями технологии микросхем являются: пленочная, полупроводниковая и смешанная. В пленочной технологии интегральная микросхема образуется нанесением на диэлектрическую подложку в определенной последовательности пленок из соответствующих материалов.
Изготовленные таким образом микросхемы называются пленочными интегральными микросхемами (ПИМС). Разновидностью ПИМС являются гибридные интегральные микросхемы (ГИМС), у которых часть элементов, имеющих самостоятельное конструктивное оформление, вносится в виде навесных деталей.
Чрезвычайным важными характеристиками микросхем является степень интеграции и плотность упаковки.
Степень интеграции представляет показатель сложности микросхемы и характеризуется числом содержащихся в ней элементов и компонентов.
Плотностью упаковки называется отношение числа элементов и компонентов микросхемы к ее объему.
Анализ технического задания В данной курсовой работе необходимо разработать топологический чертеж усилителя промежуточной частоты.
Топологическим называется такой чертеж интегральной микросхемы, в котором указана форма, местоположение и коммутативная связь элементов на подложке. В разработку топологии микросхемы входит: расчет геометрии каждого пленочного элемента и допусков на его размеры, выбор материала для них; определение оптимальных условий расположения пленочных и навесных элементов (при этом должны учитываться рассеиваемые мощности элементов, возможные паразитные связи между ними и их влияние на электрические параметры микросхемы); расчет размеров и выбор материала подложки, определение последовательности и выбор технологии напыления пленок. Плату данного устройства необходимо изготовить фотолитографическим методом, т.е. нужные конфигурации пленок получают в процессе травления.
Данная плата должна стабильно работать диапазоне температур от –15 до +40 0 С. Разработка топологии Резисторы. В гибридных интегральных микросхемах широко применяются тонкопленочные резисторы.
Сопоставляя физические свойства пленок с техническими требованиями к параметрам резистора, выбирают подходящий материал. При этом руководствуются следующими соображениями: необходимо, чтобы резистор занимал возможно меньшую площадь, а развиваемая в нем температура не должна нарушать стабильность параметров, ускорять процессы старения, выводить величину сопротивления за рамки допуска. По возможности стараются применить более толстые пленки, т.к. у очень тонких ухудшается стабильность сопротивления. Из сказанных выше соображений выбираем сплав РС-3710, у которого имеются следующие характеристики: диапазон сопротивлений 10…20000 Ом, Удельное сопротивление 100…2000 Ом/ , Удельная мощность 20 мВт/мм 2 , ТКС M a r = 3.5*10 -4 , d a r = 1.5*10 -4 , коэффициент старения M КСТ = 2*10 -6 ч -1 , d КСТ = 0.1*10 -6 . Так же имеются конструкционные и технологические ограничения: минимальная длинна резистора l 0 = 0.1 мм, минимальная ширина резистора b 0 = 0.05 мм, минимальная длинна контактного перехода l к = 0.1 мм, минимальное расстояние между краями перекрывающих друг друга пленочных элементов h = 0.05 мм.
| Рис.2. Резистивная схема |
Зададимся коэффициентом влияния a = 0.03 и вычислим коэффициенты влияния:
Определим среднее значение и половины полей рассеяния относительной погрешности сопротивления, вызванной изменением температуры по следующим формулам:
(3). где
- среднее значение температурного коэффициента сопротивления резистивной пленки.
,
- верхняя и нижняя предельные температуры окружающей среды.
(4).
(5). Таким образом, подставляя исходные данные в формулы (3) – (5) получаем следующее:
Определим среднее значение и половину поля рассевания относительной погрешности сопротивления, вызванное старением резистивного материала по формулам:
(7);
(6), где
- среднее значение коэффициента старения резистивной пленки сопротивления.
- половина поля рассеяния коэффициента старения сопротивления резистивной пленки.
;
(7).
;
(8). Таким образом, получаем следующее:
(9);
(9);
;
(1 0 ) Определим допустимое значение случайной составляющей поля рассеяния суммарной относительной погрешности сопротивления по следующей формуле:
;
(11) где:
Положив М R ПР = 0, тогда:
;
(12) Определим допустимое значение случайной составляющей поля рассеяния производственной относительной погрешности сопротивления по следующей формуле:
(13) Подставим вычисленные выше значения в данную формулу, получим:
Определим допустимое значение случайной составляющей поля рассеяния производственной относительной погрешности коэффициента формы, по следующей формуле:
(14) Подставим значения и получим:
Определим расчетное значение коэффициента форм резистора:
(15) Определим ширину резистивной пленки:
Определим сопротивление контактного перехода резистора:
Проверим следующее условие:
Определим длину резистора:
Теперь определим среднее значение коэффициента формы:
(23) Определим среднее значение М R ПР и половину поля рассеяния d R ПР относительной производственной погрешности:
(24)
(24)
(25)
(26)
(27) Определим граничные условия поля рассеяния относительной погрешности сопротивления резистора:
(28)
(29)
(30)
Определяем длину резистивной пленки и площадь резистора:
2 . (31) Определим коэффициент нагрузки резистора:
(32)
(33) Подобно этому расчету рассчитываем остальные резисторы, а результаты заносим в таблицу №1. Таблица №1
| Резисторы | L ,мм | b , мм | S, мм | P , мВт |
| R1, R10 | 2.6 | 0.2 | 0.52 | 0.22 |
| R2 | 1.7 | 0.2 | 0.34 | 0.17 |
| R3 | 1.2 | 0.2 | 0.24 | 0.06 |
| R4, R7 | 3.2 | 0.2 | 0.64 | 0.32/0.39 |
| R5 | 0.9 | 0.35 | 0.315 | 0.11 |
| R6 | 0.55 | 0.7 | 0.385 | 0.26 |
| R8 | 0.4 | 0.65 | 0.26 | 0.19 |
| R9 | 0.75 | 0.2 | 0.15 | 0.35 |
Пленочный конденсатор представляет собой последовательно нанесенные на подложку и друг на друга пленки проводника и диэлектрика. Такая конструкция пленочных конденсаторов делает их более сложными элементами микросборок по сравнению с резисторами.
Применение многослойных конденсаторов с большим числом обкладок приводит к усложнению технологии, снижению надежности, электрической прочности конденсаторов и повышение их стоимости.
Поэтому в пленочных микросборках в основном применяются лишь трехслойные конденсаторы. Все характеристики пленочных конденсаторов зависят от выбранных материалов.
Диэлектрическая пленка должна иметь высокую адгезию к подложке и металлическим обкладкам, обладать высокой электрической прочностью и малыми диэлектрическими потерями и многими другими требованиями и характеристиками. Под наши номиналы конденсаторов более подходит боросиликатное стекло (ЕТО.035.015.ТУ) с удельной емкостью 150…400 пФ/мм 2 , диэлектрической проницаемостью e 0 = 4, tg d д 0.1…0.15 10 2 , электрической прочностью Е ПР = 300…400 В/мкм, ТКЕ 10 4 М a e д = 0.36, d a e д = 0.01, коэффициентом старения 10 -5 М к e д = 1, d к e д = 0.5. Также имеем технологические ограничения на размеры обкладок: D l = D b = 0.005мм. – максимальное отклонение размеров обкладок, М со = 0.01 – среднее значение производственной относительной погрешности удельной емкости, d со = 0.005 – половина поля рассеивания производственной относительной погрешности удельной емкости.
Вычислим среднее значение относительной погрешности удельной емкости, Вызванной изменением температуры, М cotb при верхней и М cotn при нижней предельной температуре: %
% (34) Среднее значение относительной погрешности емкости, вызванной изменением температуры (2.17; 2.18 [5]):
(35)
%
Половины полей рассеяния относительной погрешности предельной емкости, вызванной изменением температуры:
% (36) Половины полей рассеяния относительной погрешности емкости, вызванной изменением температуры (2.20; 2.21 [5]):
(37)
% Среднее значение относительной погрешности удельной емкости, вызванной старением диэлектрической пленки:
% (38) Среднее значение относительной погрешности емкости, вызванной старением диэлектрической пленки (2.23; 2.24 [5]):
%
Половина поля рассеяния относительной погрешности удельной емкости, вызванной старением диэлектрической пленки:
% (40) Половина полей рассеяния относительной погрешности емкости, вызванной старением диэлектрической пленки (2.26; 2.27 [5]):
(41)
%
Найдем сумму средних значений относительных погрешностей:
% (42)
% (43) Введем коэффициент запаса на уход емкости под действием не учетных факторов:
Определим допустимое значение половины поля рассеяния, производственной относительной погрешности активной площади:
- минимальное значение двух предыдущих.
Допустимый коэффициент формы активной площади конденсатора: (46) Коэффициент формы берем из условия 2.39 [5]:
(47) К = 1. Определим максимальную удельную емкость, обусловленную заданным допуском на емкость по техническим параметрам:
2 (48) Коэффициент запаса электрической прочности конденсатора принимаем равный 2:
Определим максимальную удельную емкость, обусловленную электрической прочностью межслойного диэлектрика и рабочим напряжением:
пФ/мм 2 (49)
производственного брака:
пФ/мм 2 (50) Определим минимальную удельную емкость, приняв значение максимальной толщины диэлектрика:
Тогда:
пФ/мм 2 (51) Выберем удельную емкость из условия:
(52)
пФ/мм 2 Определим соответствующую С 0 толщину диэлектрика:
(53) Определим расчетную активную площадь конденсатора:
2 (54) Определим расчетное значение длины и ширины верхней обкладки конденсатора при выбираем коэффициенте формы:
(55) С учетом масштаба фото оригинала:
h = 0.2 мм. – минимальное расстояние краем нижней и верхней обкладок, обусловленное выбранной технологией.
Определим расчетное значение длины и ширины нижней обкладки конденсатора:
(57) С учетом масштаба фото оригинала:
Определим расчетное значение длины и ширины диэлектрического слоя конденсатора:
(59) С учетом масштаба фото оригинала:
Определим площадь, занимаемую конденсатором:
2 (61) Определим точность емкости сконструированного конденсатора. Для этого определим среднее значение относительной погрешности активной площади:
(62) Определим среднее значение производственной погрешности:
(63) определим поле рассеяния относительной погрешности активной площади:
(64) Определим поле рассеяния производственной погрешности:
(65) Определим положительное и отрицательное значение предельного отклонения емкости:
(66)
(67) Предельное отклонение емкости будет равно максимальному из этих значений:
Проверим условие :
Как видно это условие выполняется, из этого следует, что выбранный материал нам подходит по своим характеристикам.
Пользуясь этим расчетом рассчитываем остальные конденсаторы, а результаты запишим в таблицу №2. Таблица №2.
| L 1 | B 1 | L 2 | B 2 | L д | B д | S | S P | |
| С 1 ; C 4 | 14.55 | 14.55 | 14.15 | 14.15 | 14.75 | 14.75 | 217.563 | 200 |
| С 2 ; C 5 | 7.15 | 7.15 | 6.75 | 6.75 | 7.35 | 7.35 | 54.022 | 45.333 |
| С 3 ; C 6 | 3.55 | 3.55 | 3.15 | 3.15 | 3.75 | 3.75 | 14.063 | 10 |
Проведен расчет топологии микросборки (расчет пассивных элементов схемы и их расположения на подложке). Разработана маршрутная технология микросборки.
оценка станков цена в Курске